R&D 现况

- D/F 电路体现技术研究开发
- MLB 技术研究开发
- Laser / CNC Drill 最佳的可加工性研究开发
- PSR/表面处理研究开发
- Via Hole Plating 技术研究开发
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TOP致力于尖端数字技术,
引领世界潮流。
2015 | 2018 | 2022 | 2025 | |
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Structure | ![]() D, 3D Type (12L) |
![]() Any-layer (12L) |
![]() Any-layer (12L) |
![]() Any-layer (12L) |
Line / Space | ![]() 30/40(µm) |
![]() 30/40(µm) |
![]() 30/30(µm) |
![]() 25/25(µm) |